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產(chǎn)品展示

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  • TMC研究級光學(xué)平臺
    TMC研究級光學(xué)平臺
    TMC研究級光學(xué)平臺 TMC的光學(xué)平臺和隔振系統(tǒng)采用全鋼結(jié)構(gòu),具有市場上最高的芯密度和最小的蜂窩單元面積,可提供業(yè)界*先的性能和剛性。 CleanTop性能系列具有三個阻尼性能級別以及適用于各種應(yīng)用的多種配置選項(xiàng)。各個工作臺甚至可以機(jī)械連接,以便在不損失阻尼性能的情況下創(chuàng)建復(fù)雜的剛性工作臺形狀。
    更新時(shí)間:2024-11-22
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  • 主動消振系統(tǒng)
    主動消振系統(tǒng)
    Stage-Base 450是專為帶高精度電動X-Y平臺的高級半導(dǎo)體工具而設(shè)計(jì)的主動消振系統(tǒng)。這些工具不但需要極其有效的消振性能,它們還要求由平臺引起的有效載荷運(yùn)動能夠非??焖俚胤€(wěn)定,以最大限度地提高工具吞吐量。
    更新時(shí)間:2024-11-22
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  • 氣浮綜合性主動隔振系統(tǒng)
    氣浮綜合性主動隔振系統(tǒng)
    氣浮綜合性主動隔振系統(tǒng) LaserTable-Base™是現(xiàn)有光學(xué)平臺隔振技術(shù)的一大飛躍。通常,光學(xué)平臺由低頻氣動隔振系統(tǒng)支撐。雖然在隔離高頻方面非常有效,但這些被動系統(tǒng)實(shí)際上放大了關(guān)鍵的1至3 Hz范圍內(nèi)的振動。
    更新時(shí)間:2024-11-22
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  • SEM主動隔振平臺
    SEM主動隔振平臺
    SEM主動隔振平臺 SEM-Base-LP采用了我們*特的STACIS壓電技術(shù),具有與我們的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)SEM-Base-VI相同的振動消除性能。SEM-Base-LP包括腳輪,專門設(shè)計(jì)用于與許多賽默飛世爾科技(前身為FEI)工具集成。
    更新時(shí)間:2024-11-22
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  • SEM主動隔振平臺
    SEM主動隔振平臺
    SEM主動隔振平臺 SEM-Base®VI是下一代STACIS主動壓電消振產(chǎn)品。SEM-Base VI被設(shè)計(jì)用于支撐所有商用掃描電子顯微鏡(SEM)以及許多聚焦離子束(FIB)和小型雙光束儀器。SEM-Base VI具有更好的隔振性能、更快、更強(qiáng)大的控制器和高級圖形用戶界面(GUI)。SEM-Base VI使許多實(shí)驗(yàn)室和設(shè)施達(dá)到了滿足工具制造商規(guī)格所需的地面振動水平。
    更新時(shí)間:2024-11-22
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  • TMC地面式主動隔振光學(xué)平臺
    TMC地面式主動隔振光學(xué)平臺
    TMC地面式主動隔振光學(xué)平臺,對于傳統(tǒng)的實(shí)驗(yàn)室地面,隔離高大工具的建筑地面振動是一個人體工程學(xué)領(lǐng)域的挑戰(zhàn)。將隔振器直接放置在工具下方可能會將工具抬高到一個不切實(shí)際的高度。此外,傳統(tǒng)空氣隔振器放置在一個較高、上重下輕的有效載荷之下時(shí)不穩(wěn)定。
    更新時(shí)間:2024-11-22
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  • TMC地面式主動隔振平臺
    TMC地面式主動隔振平臺
    TMC地面式主動隔振平臺 采用STACIS - TMC業(yè)界*先的主動壓電消振技術(shù)、“硬安裝”設(shè)計(jì)和始于0.6 Hz的隔振與內(nèi)置隔振器的工具兼容。 模塊化、定制和重新定位的靈活性 - 每個平臺都根據(jù)客戶的應(yīng)用量身定做,但與混凝土平臺不同,如果工具或地面特性發(fā)生變化,這些平臺可以很容易地重新進(jìn)行配置。
    更新時(shí)間:2024-11-22
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  • TMC主動隔振平臺
    TMC主動隔振平臺
    TMC主動隔振平臺 STACIS IIIc是STACIS III高級主動隔振系統(tǒng)的緊湊型版本。它在減小的高度下提供了同樣出色的隔振性能。 STACIS IIIc非常適合在沒有或地板很低的活動地板上使用,因?yàn)闃?biāo)準(zhǔn)STACIS III系統(tǒng)的高度會使儀器過高。
    更新時(shí)間:2024-11-22
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